Plasma- und CVD-Prozessüberwachung

Plasma- und CVD-Prozessüberwachung

Anwendungen für Plasmaätzung, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) erfordern ein gründliches Verständnis der komplexen chemischen Vorgänge in den Prozessen. Ebenfalls entscheidend für die Prozesse ist die Fähigkeit zur Überwachung von Low-Level-Komponenten.

Für Plasmaanwendungen wählen Wissenschaftler die Extrel MAX und MAX-LT™ Flansch-Massenspektrometer. Diese Detektionssysteme bieten hohe Leistung und Geschwindigkeit mit der Fähigkeit, Energieanalysen durchzuführen. Hohe Empfindlichkeit und hohe Abundanzempfindlichkeit ermöglichen die Überwachung von Komponenten mit sehr niedrigem Partialdruck innerhalb eines hohen Hintergrunds. Es können auch Ionen, Radikale und Neutrale gemessen werden. Das Plasma-Analyse-System von Extrel kann mit Prozessen bis zu Atmosphärendruck arbeiten.

 

System-Spezifikationen

Die MAX- und MAX-LT-Flansch-Massenspektrometer zeichnen sich aus durch:

  • Hohe Empfindlichkeit bis 6 mA/Torr
  • Hohe Auflösung bis zu 3000 M/delta-M bei Masse 40
  • Hohe Abundanz-Empfindlichkeit bis 107
  • Partialdruck Nachweisbarkeit bis 10-16 mbar
  • Energieauflösung bis zu 0,5eV
  • Verschiedene Massenbereiche von 1-60 und 2-1000 amu
  • Axiale und rechtwinklige Konfigurationen
  • Erkennung positiver und negativer Ionen und Neutrale

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