Da die Vakuum-Ultraviolett (VUV)-Lithografie zu einer Prozessanwendung wird, ist die Entwicklung der nächsten Generation von vakuumtauglichen Photoresisten von entscheidender Bedeutung. Die Entwicklung dieser neuen Photoresists hängt vom Verständnis ihrer Eigenschaften unter Vakuum ab. Unsere flanschmontierten Massenspektrometer, die MAX- und MAX-LT™-Systeme, bieten die hohe Empfindlichkeit und Auflösung, die erforderlich ist, um die Materialausgasung und die beim Zerfall der Photoresiste entstehenden Stoffe vollständig zu charakterisieren.
Die MAX- und MAX-LT-Systeme sind auch ideal für die hochempfindliche Restgasanalyse der Vakuumkammer, um sicherzustellen, dass Ammoniak, Säuren und andere Produkte, die den Prozess oder das System schädigen können, nicht vorhanden sind.
Die Lithographie-Produkte von Extrel umfassen:
- MAX-Massenspektrometer in Flanschausführung
- MAX-LT flanschmontierte Massenspektrometer
Vorteile des Einsatzes von Extrel-Systemen im Lithographie-Prozess:
- Hohe Empfindlichkeit bis 6 mA/Torr
- Hohe Auflösung bis 110 M bei m/z 28
- Partialdruck-Detektierbarkeit bis 10-16 mbar
- Hohe Abundanz Empfindlichkeit bis 107
- Verschiedene Massenbereiche von 1-120 bis 2-1200 amu
- Positive und negative Ionendetektion
