Hochreine Gase sind eine Notwendigkeit für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und die kontinuierliche Überwachung der Bulk-Gasreinheit kann eine maximale Produktion sicherstellen.

Da die Vakuum-Ultraviolett (VUV)-Lithografie zu einer Prozessanwendung wird, ist die Entwicklung der nächsten Generation von vakuumtauglichen Photoresisten von entscheidender Bedeutung. Die Entwicklung dieser neuen Photoresists hängt vom Verständnis ihrer Eigenschaften unter Vakuum ab. Unsere flanschmontierten Massenspektrometer bieten die hohe Empfindlichkeit und Auflösung, die erforderlich ist, um die Materialausgasung und die beim Abbau der Fotolacke entstehenden Stoffe vollständig zu charakterisieren.

Die Analyse der Molekularstrahlepitaxie (MBE) erfordert den Einsatz eines Massenspektrometers mit sehr hoher Empfindlichkeit und rauscharmer Elektronik, um nicht nur die niedrige Flussrate mehrerer Molekularstrahlen zu überwachen, sondern auch eine Ultrahochvakuum (UHV)-Restgasanalyse der Kammer durchzuführen.

Anwendungen für Plasmaätzung, chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) erfordern ein gründliches Verständnis der komplexen chemischen Vorgänge in den Prozessen. Ebenfalls entscheidend für die Prozesse ist die Fähigkeit zur Überwachung von Low-Level-Komponenten.

Für Halbleiterhersteller ist die Überwachung der Zerstörungs- und Beseitigungseffizienz (DRE) von gefährlichen Luftschadstoffen (HAPs) und Treibhausgasen immer wichtiger geworden, da Gesetze (angetrieben durch das öffentliche Bewusstsein und globale Vereinbarungen wie das Kyoto-Protokoll) und lokale Verschmutzungsvorschriften deutlich verschärft wurden. Diese strengen Standards beinhalten oft …